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【M-320XG】ANELVA渠道商介紹,PVD（Physical Vapor Deposition）技術，其實是制備薄膜材料的主要技術之一。用于制備薄膜材料的物質被稱為PVD鍍膜材料。經過多年發展，PVD 鍍膜技術被廣泛用于應用于電子、光學、機械、建筑、材料等領域。

PVD基本方法包括真空蒸發、濺射、離子鍍，其中，濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜是最主流的兩種PVD鍍膜方式。

濺射鍍膜

濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術。濺射鍍膜技術具有可實現大面積快速沉積，薄膜與基體結合力好，濺射密度高，膜層可控性和重復性好等優點，而且任何物質都可以進行濺射，因而近年來發展迅速，應用廣泛。濺射靶材廣泛應用于半導體芯片、平面顯示器、太陽能電池、信息存儲、工具改性、電子器件等領域。

濺射靶材制造所涉及的工序精細且繁多，工序流程管理及制造工藝水平將直接影響到濺射靶材的質量和良品率。此環節是在濺射靶材產業鏈條中對生產設備及技術工藝要求**的環節，濺射薄膜的品質對下游產品的質量具有重要影響。

在濺射鍍膜過程中，濺射靶材需要安裝在機臺中完成濺射反應，濺射機臺專用性強、精密度高，市場長期被美國、日本跨國集團壟斷，主要設備提供商包括AMAT（美國）、ULVAC（日本）、ANELVA（日本）、Varian（美國）、ULVAC（日本）等行業內知名企業。

真空蒸發鍍膜和蒸鍍材料

真空蒸發鍍膜是指在真空條件下，通過蒸發源加熱蒸發某種物質使其沉積在基板材料表面來獲得薄膜的一種技術，被蒸發的物質被稱為蒸鍍材料。

真空蒸發鍍膜技術，也是應用廣泛的鍍膜技術，主要應用于光學元器件、LED、平板顯示和半導體分立器的鍍膜。

兩相比較

蒸發鍍膜簡單便利、操作方便、成膜速度快。從工藝制造角度上來看，蒸鍍材料的制造復雜度要遠遠低于濺射靶材，但蒸發鍍膜常用于小尺寸基板材料的鍍膜。

濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優點。

市場對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應用量**的PVD鍍膜材料。

美、日壟斷，中國崛起

高純濺射靶材是伴隨著半導體工業的發展而興起的，屬于典型的技術密集型產業，產品技術含量高，研發生產設備專用性強。美國、日本的半導體工業相繼催生了一批高純濺射靶材生產廠商，如日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、住友化學，并于當前居于全球市場的主導地位。

大陸OLED 產線如雨后春筍，蒸鍍設備一機難求OLED（有機發光二極管）顯示技術具有自發光、廣視角、幾乎無窮高的對比度、較低耗電、極高反應速度等優點，因此被廣泛應用于手機、數碼攝像機、筆記本電腦、電視等。

三星是最早**手機OLED顯示屏發展的企業，國內廠商如京東方、和輝光電、華星光電、信利以及深天馬等企業紛紛加速 OLED 技術研發，布局 OLED 產線。

Sunic OLED 蒸鍍設備

OLED 工藝技術壁壘極高，關鍵設備幾乎被日本、韓國和美國所壟斷，且設備價格昂貴，目前市場上企業格局為“一超多強”。

由于穩定量產與技術成熟方面的優勢，目前全球蒸鍍機生產幾乎被日本Canon Tokki壟斷。對于國內很多 OLED 產線來說，蒸鍍設備真的是“一機難求”。

目前，Canon Tokki一年生產出的7臺蒸鍍機中，有5臺給了三星，LGD和京東方各占一臺，Canon Tokki也在積極擴充產線。

日本的ULVAC，韓國的SFA和SNU緊追不舍，雖然與Canon Tokki這種壟斷巨頭相比還有不小的差距，但是也在大力研發，積極創新。



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