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工業廢氣處理設備光催化設備廠家
　　一、工藝原理：
　　光催化是在外界可見光的作用下發生催化作用,光催化氧化反應是以半導體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機物降解為CO2和H2O及其它**無害成份。由于半導體的光吸收閾值與帶隙具有式K=1240/Eg(eV)的關系,因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區域。當光子能量高于半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基等。
　　二、適用范圍：
　　1）城市污水站(泵站臭氣、預處理臭氣、污泥處理臭氣);
　　2）垃圾處理廠(收集站臭氣、分選車間臭氣);
　　3）涂料廠除臭/異味;
　　4）塑料、橡膠廠生產廢氣;
　　5）飼料加工廢氣;
　　6）食品飲料廠異味;
　　7）制藥企業除臭/異味;
　　三、技術特點:
　　1）、直接用空氣中的氧氣做氧化劑，反應條件溫和（常溫常壓）；
　　2）、可以將有機污染物分解為二氧化碳和水等無機小分子；
　　3）、光催化塊化學性質穩定，氧化還原性強，成本低；